อนุภาค Hafnium ที่ทนกรด

อนุภาค Hafnium ที่ทนกรดเป็นวัสดุที่มีประสิทธิภาพสูงที่พัฒนาขึ้นโดยเฉพาะสำหรับสภาพแวดล้อมที่มีการกัดกร่อนสูงโดยใช้ Hafnium โลหะที่มีความบริสุทธิ์สูง (มากกว่าหรือเท่ากับ 99.9%) และทำผ่านเทคโนโลยีกระบวนการขั้นสูง ประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยมในสื่อกรดที่แข็งแกร่งทำให้เป็นวัสดุป้องกันหลักในด้านเคมีนิวเคลียร์และสาขาอื่น ๆ คุณลักษณะที่สำคัญที่สุดของวัสดุนี้คือความต้านทานการกัดกร่อนของกรดที่ดีที่สุดซึ่งสามารถต้านทานการกัดเซาะของกรดออกซิไดซ์ที่แข็งแกร่งเช่นกรดไนตริกกรดไฮโดรคลอริกกรดซัลฟิวริกและแม้กระทั่ง qua regia อัตราการกัดกร่อนประจำปีในกรดไนตริกเดือด 70% น้อยกว่า 0.01 มม. และอายุการใช้งานสามารถเข้าถึงได้มากกว่า 10 เท่าของสแตนเลส ในขณะเดียวกันก็มีความเสถียรอุณหภูมิสูงที่ยอดเยี่ยมโดยมีจุดหลอมเหลวสูงถึง 2233 องศาเซลเซียสและสามารถรักษาความสมบูรณ์ของโครงสร้างในสภาพแวดล้อมกรดเข้มข้นที่ 200 องศา C โดยพื้นฐานการหลีกเลี่ยงความเสี่ยงของการกัดกร่อนระหว่างกันและการเจาะในท้องถิ่น นอกจากนี้การควบคุมองค์ประกอบทางเคมีที่เข้มงวด (สิ่งสกปรกเช่นเหล็กนิกเกิลโครเมียม ฯลฯ น้อยกว่า 50ppm) ทำให้มั่นใจได้ถึงความบริสุทธิ์ของวัสดุในสื่อปฏิกิริยาหลีกเลี่ยงการเป็นพิษจากการเร่งปฏิกิริยาหรือการปนเปื้อนของผลิตภัณฑ์

กระบวนการผลิตอนุภาค Hafnium ที่ทนกรดเริ่มต้นด้วยการเตรียมวัตถุดิบ Hafnium ที่มีความบริสุทธิ์สูง สารประกอบ Hafnium ที่มีความบริสุทธิ์สูงจะถูกสกัดจาก Zirconium Hafnium CO ที่เกิดขึ้นผ่านการสกัดและเทคโนโลยีการแยกจากนั้นกระบวนการหลอมเหลวอิเล็กตรอน (EBM) จะถูกใช้เพื่อให้ได้ฮัฟเนียมอินกโตตที่มีความบริสุทธิ์มากกว่าหรือเท่ากับ 99.9% ต่อจากนั้นการขึ้นรูปผงจะดำเนินการผ่านไฮโดรเจน dehydrogenation (HDH) หรือวิธีการอะตอมพลาสมา (PA): วิธี HDH ได้รับอนุภาคพื้นที่ผิวที่มีรูปร่างผิดปกติและสูงผ่านไฮโดรเจน กฎหมาย PA ละลายอิเล็กโทรด Hafnium เป็นหยดผ่านส่วนโค้งพลาสมาและทำให้พวกมันเย็นลงในอนุภาคทรงกลมซึ่งแม้ว่าจะมีราคาแพงกว่า แต่ก็มีความลื่นไหลและปริมาณออกซิเจนที่ต่ำกว่า อนุภาคที่เกิดขึ้นจะผ่านกระบวนการหลังการรักษาเช่นการคัดกรองและการให้เกรดการล้างกรดและ passivation และในที่สุดก็บรรจุในบรรยากาศเฉื่อยเพื่อป้องกันมลพิษออกซิเดชัน

ผลิตภัณฑ์มีข้อกำหนดและขนาดที่หลากหลายโดยมีช่วงขนาดอนุภาค 1-150 ไมครอน ผงละเอียด (1-45 μ m) หรือผงหยาบ (45-150 μ m) สามารถให้ได้ตามความต้องการของการใช้งาน สัณฐานวิทยาอาจผิดปกติ (ที่มีพื้นที่ผิวเฉพาะขนาดใหญ่ซึ่งเอื้อต่อการเคลือบด้วยการเคลือบ) หรือทรงกลม (ด้วยการไหลที่ดีเหมาะสำหรับการผลิตสารเติมแต่ง); ปริมาณออกซิเจนสามารถควบคุมได้ต่ำกว่า 800ppm (เกรดทั่วไป) หรือต่ำกว่า 300ppm (เกรดแอปพลิเคชันระดับสูง) ผลิตภัณฑ์ทั้งหมดตรงตามข้อกำหนดด้านประสิทธิภาพสำหรับวัสดุที่ทนกรดในมาตรฐานสากลเช่น ASTM G48

ในสนามแอปพลิเคชันอนุภาค Hafnium ที่ทนกรดส่วนใหญ่จะใช้ในอุปกรณ์ต่อต้านการกัดกร่อนทางเคมีเช่นการสร้างการเคลือบซับในสำหรับเครื่องปฏิกรณ์และเซลล์อิเล็กโทรไลต์ผ่านเทคโนโลยีการพ่นด้วยความร้อนปกป้องอุปกรณ์โดยตรงจากกระบวนการกรดที่แข็งแกร่งเช่นไนเตรทและคลอรีน ในการประมวลผลเชื้อเพลิงนิวเคลียร์ส่วนประกอบที่ใช้ในการผลิตถังละลายเชื้อเพลิงที่ใช้แล้วทนต่อการกัดกร่อนแบบคู่จากกรดไนตริกเข้มข้นอุณหภูมิสูงและกัมมันตภาพรังสี ในด้านการป้องกันสิ่งแวดล้อมและพลังงานสามารถใช้ในสถานการณ์ต่าง ๆ เช่นส่วนประกอบการกรองสำหรับระบบบำบัดน้ำเสียที่เป็นกรดการเคลือบป้องกันการกัดกร่อนสำหรับเพลตสองขั้วของเซลล์เชื้อเพลิง ฯลฯ เพื่อเพิ่มความทนทานของอุปกรณ์ในสภาพแวดล้อมที่รุนแรง นอกจากนี้ในอุตสาหกรรมโลหะวิทยายังสามารถใช้สำหรับชิ้นส่วนที่ต้องการความต้านทานระยะยาวต่อการกัดกร่อนของกรดเช่นตะกร้าขั้วบวก electroplating และอุปกรณ์เสริมถังดองโลหะหายาก
 

ป้ายกำกับยอดนิยม: อนุภาค Hafnium ที่ทนกรด, ผู้ผลิตอนุภาค Hafnium ที่ทนกรดของจีน, ซัพพลายเออร์, โรงงาน, แทนทาลัมสำหรับอุปกรณ์วิจัย, แทนทาลัมสำหรับแอปพลิเคชันความต้านทานความร้อน, ผงโลหะแทนทาลัมสำหรับการใช้งานไฮเทค, ผงแทนทาลัมสำหรับกระบวนการเผา, การแปรรูปวัตถุดิบแทนทาลัม, แผ่นแทนทาลัมสำหรับเทคโนโลยีการบินและอวกาศ