เป้าหมายเคลือบไนโอเบียม
เป้าหมายที่เคลือบด้วยไนโอเบียมเป็นวัสดุที่ใช้สำหรับการรักษาพื้นผิวโดยหลักสำหรับการสร้างชั้นป้องกันหรือการทำงานบนพื้นผิวต่างๆ เป้าหมายเคลือบไนโอเบียมมักจะใช้กับการรักษาพื้นผิวของโลหะเซรามิกและวัสดุอื่น ๆ ผ่านเทคโนโลยีการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) สร้างชั้นป้องกันการสึกหรอและการป้องกันการกัดกร่อน การเคลือบผิวไนโอเบียมแสดงประสิทธิภาพการก่อตัวของฟิล์มที่ดีและความเสถียรทางเคมีในระหว่างกระบวนการเคลือบซึ่งสามารถปรับปรุงความแข็งการยึดเกาะและความต้านทานการกัดกร่อนของการเคลือบ
คำอธิบาย
Shaanxi Zhongheng Weichuang Material Material Co. , Ltd. ตั้งอยู่ในเขตการพัฒนาเทคโนโลยีขั้นสูงของเมือง Baoji, จังหวัด Shaanxi ผลิตภัณฑ์หลักของเรา ได้แก่ แผ่น, แท่ง, ท่อ, สายไฟ, อนุภาค, ฟอยล์และโปรไฟล์แปรรูปแบบดั้งเดิมอื่น ๆ ของแทนทาลัม, ไนโอเบม, ไทเทเนียม, นิกเกิล, เซอร์โคเนียม, ฮาฟนีมและโลหะผสมของพวกเขารวมถึงผลิตภัณฑ์ที่ผ่านการประมวลผล 24- ชั่วโมงความกังวลฟรีหลังการขาย
ลักษณะและคุณสมบัติของเป้าหมายเคลือบไนโอเบียม
อักขระ
ความบริสุทธิ์สูง: มันมักจะทำจาก niobium ที่มีความบริสุทธิ์สูง (สูงกว่า 99.95%) เพื่อให้แน่ใจว่าความเสถียรทางเคมีและประสิทธิภาพของฟิล์ม
ความสามารถในการกลึงที่ดี: โลหะไนโอเบียมนั้นง่ายต่อการประมวลผลในรูปทรงที่แตกต่างกัน (เช่นเป้าหมายแบนและการหมุน)
ความต้านทานการกัดกร่อน: การเคลือบไนโอเบียมสามารถเพิ่มความต้านทานการกัดกร่อนของสารตั้งต้นได้อย่างมีนัยสำคัญโดยเฉพาะอย่างยิ่งในสภาพแวดล้อมที่เป็นกรดหรือออกซิไดซ์
ความเสถียรของอุณหภูมิสูง: Niobium มีจุดหลอมเหลวสูง (2468 องศา C) ทำให้เหมาะสำหรับสภาพแวดล้อมการใช้งานที่อุณหภูมิสูง
การยึดเกาะที่ยอดเยี่ยม: การยึดเกาะที่แข็งแกร่งกับพื้นผิวต่าง ๆ เช่นสแตนเลส, ไทเทเนียม, เวเฟอร์ซิลิคอน ฯลฯ
ลักษณะ
Superconductivity: Niobium เป็นวัสดุตัวนำยิ่งยวดที่สำคัญ (อุณหภูมิวิกฤต 9.2K) ที่ใช้ในการเตรียมฟิล์มบางตัวนำยิ่งยวด (เช่นตัวนำยิ่งยวดและอุปกรณ์ควอนตัม)
ความเข้ากันได้ทางชีวภาพ: ไม่เป็นพิษและเข้ากันได้กับเนื้อเยื่อของมนุษย์เหมาะสำหรับการเคลือบรากฟันเทียม
การดูดซับนิวตรอนความร้อนต่ำ: เหมาะสำหรับการสะท้อนนิวตรอนหรือการเคลือบป้องกันในอุตสาหกรรมนิวเคลียร์
ประสิทธิภาพการใช้แสง: การสะท้อนแสงสูงหรือการดูดซับฟิล์มบาง ๆ (เช่นการเคลือบพลังงานแสงอาทิตย์) สามารถเตรียมได้โดยการสปัตเตอร์
วัตถุประสงค์หลัก
1 อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และอิเล็กทรอนิกส์:
เลเยอร์สิ่งกีดขวางในวงจรรวม (ป้องกันการแพร่กระจายของทองแดง)
ฟิล์มบาง ๆ (เช่น NB ∝ SN, NBTI Superconducting Materials)
2 อุตสาหกรรมการบินและอวกาศและนิวเคลียร์:
การเคลือบที่ทนต่ออุณหภูมิ/รังสีสูงสำหรับใบพัดกังหันหรือส่วนประกอบเครื่องปฏิกรณ์
3 เครื่องมือทางการแพทย์และเครื่องมือ:
การเคลือบที่เข้ากันได้ทางชีวภาพสำหรับรากฟันเทียมศัลยกรรมกระดูกหรือทันตกรรม
4 ในด้านทัศนศาสตร์และพลังงาน:
ฟิล์มดูดซับแสงอาทิตย์แบบเลือกการเคลือบกระจกสะท้อนแสง
การเคลือบแบบดัดแปลงสำหรับวัสดุอิเล็กโทรดของแบตเตอรี่ลิเธียมไอออน
5, การตกแต่งและการป้องกัน:
การเคลือบที่ทนต่อการทนต่อการออกซิเดชั่นสำหรับนาฬิกาและเครื่องประดับระดับสูง
ในอนาคตด้วยความก้าวหน้าของเทคโนโลยีการเคลือบใหม่ศักยภาพการใช้งานของเป้าหมายการเคลือบ Niobium จะได้รับการเผยแพร่ต่อไป ตัวอย่างเช่นในเขตข้อมูลที่เกิดขึ้นเช่นการคำนวณควอนตัมเครื่องปฏิกรณ์นิวเคลียร์ฟิวชั่นและอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่ยืดหยุ่นการพัฒนาฟิล์มบางที่ใช้ไนโอเบียมอาจกลายเป็นจุดพัฒนาทางเทคโนโลยีที่สำคัญ ในขณะเดียวกันการส่งเสริมแนวคิดการผลิตสีเขียวและแนวคิดการพัฒนาที่ยั่งยืนจะผลักดันการประยุกต์ใช้ที่เป็นนวัตกรรมของเป้าหมายการเคลือบ Niobium ในกระบวนการเคลือบพลังงานต่ำและประสิทธิภาพสูง
ป้ายกำกับยอดนิยม: เป้าหมายเคลือบไนโอเบียม, ผู้ผลิตเป้าหมายที่เคลือบด้วย Nibium China Niobium, ซัพพลายเออร์, โรงงาน, ผงแทนทาลัมสำหรับตัวเก็บประจุ
ส่งคำถาม
คุณอาจชอบ
