Tantalum Target 80x2
วัสดุเป้าหมายการเคลือบแทนทาลัมเป็นวัสดุสำคัญที่ใช้ในกระบวนการเคลือบส่วนใหญ่ในสนามของเซมิคอนดักเตอร์, เลนส์, สื่อการจัดเก็บแม่เหล็ก, เช่นเดียวกับอุปกรณ์ทนต่อการสึกหรอและอุปกรณ์ทนต่อการกัดกร่อน เทคโนโลยีการสะสมไอ (PVD) ในสภาพแวดล้อมสูญญากาศเพื่อสร้างฟิล์มบาง ๆ .
คำอธิบาย
Shaanxi Zhongheng Weichuang วัสดุโลหะ Co ., Ltd . ตั้งอยู่ในเขตการพัฒนาเทคโนโลยีขั้นสูงของเมือง Baoji, Shaanxi Province . ผลิตภัณฑ์หลักของเรารวมถึงแผ่นดิน นิกเกิล, เซอร์โคเนียม, Hafnium และโลหะผสมของพวกเขาเช่นเดียวกับผลิตภัณฑ์ที่ผ่านการแปรรูปลึกเช่นไม้กางเขน, วงแหวนดิน, ท่อป้องกัน, วัสดุเป้าหมาย, สกรู, ฯลฯ . โรงงานรวมและการค้าที่ปรับแต่งได้ผลิตภัณฑ์มาตรฐานที่มีอยู่
คุณสมบัติและแอปพลิเคชัน
ลักษณะของวัสดุเป้าหมายที่เคลือบแทนทาลัมมีดังนี้
ความบริสุทธิ์สูง: ความบริสุทธิ์ของวัสดุเป้าหมายแทนทาลัมมักจะสูงกว่า 99 . 9995%เพื่อให้มั่นใจถึงคุณภาพและความเสถียรของการเคลือบ
ค่าการนำไฟฟ้าที่ดี: แทนทาลัมเป็นวัสดุนำไฟฟ้าที่ยอดเยี่ยมเหมาะสำหรับการใช้งานที่ต้องการประสิทธิภาพทางไฟฟ้าที่ดี .
ความต้านทานการกัดกร่อน: แทนทาลัมทำงานได้ดีในสภาพแวดล้อมทางเคมีหลายอย่างและเหมาะสำหรับการใช้งานที่ต้องใช้ความต้านทานการกัดกร่อน .
การควบคุมมิติความแม่นยำ: ข้อกำหนด 80x2 ต้องการความทนทานต่อความหนาอย่างเข้มงวดและความเรียบของพื้นผิวเพื่อหลีกเลี่ยงการเคลือบที่ไม่สม่ำเสมอหรือการสาดอนุภาคระหว่างกระบวนการสปัตเตอร์ .
กระบวนการเตรียมการและการใช้งานตลาด
การผลิตเซมิคอนดักเตอร์: ใช้สำหรับการสะสมฟิล์มบาง ๆ ในการผลิตชิปเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพของอุปกรณ์และความน่าเชื่อถือ .
ส่วนประกอบแสง: ใช้ในการผลิตเลนส์ออปติคัลและหน้าต่างปรับปรุงประสิทธิภาพการใช้แสงและความทนทาน .
สื่อการจัดเก็บแม่เหล็ก: ใช้สำหรับการผลิตอุปกรณ์จัดเก็บข้อมูลแม่เหล็กเพื่อปรับปรุงความหนาแน่นของการจัดเก็บข้อมูลและความเสถียร .
อุปกรณ์ที่ทนต่อการสึกหรอและทนต่อการกัดกร่อน: ใช้ในการผลิตส่วนประกอบอุตสาหกรรมที่ทนต่อการกัดกร่อนและการสึกหรอที่หลากหลายยืดอายุการใช้งาน .
กระบวนการผลิตวัสดุเป้าหมายการเคลือบแทนทาลัม
การทำให้บริสุทธิ์วัตถุดิบและการเตรียมผง
1. การหลอมแร่: แยกองค์ประกอบแทนทาลัมจากแร่แทนทาลัม (เช่น tantalite) ผ่าน pyrometallurgy หรือ hydrometallurgy จากนั้นได้รับโลหะแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง (บริสุทธิ์มากกว่าหรือเท่ากับ 99 {{3} 95%)
การเตรียมผง: ผงแทนทาลัมขนาดเล็ก (ขนาดอนุภาค 2-3 μ m) ผลิตโดยใช้วิธีการลดความร้อนโซเดียมและการกระจายขนาดอนุภาคถูกควบคุมโดยการตะแกรง .}}
2. กระบวนการขึ้นปั้น
การกด isostatic เย็น: วางผงแทนทาลัมลงในแจ็คเก็ตน้ำยางและรักษาความดันเป็นเวลาอย่างน้อย 20 นาทีในสภาพแวดล้อมที่มีแรงดันสูงสูงกว่า 200MPa เพื่อสร้างร่างกายเบื้องต้น .}
ข้อดี: แรงดันสูงบีบอัดผงอย่างสม่ำเสมอลดรูขุมขนภายในและปรับปรุงความหนาแน่นและความสม่ำเสมอของโครงสร้างของร่างกาย .}
3. การเผาอุณหภูมิสูง
การเผาสุญญากาศ: บิลเล็ตถูกวางไว้ในเตาสุญญากาศ (องศาสูญญากาศมากกว่าหรือเท่ากับ 10 ⁻² Pa) และเผาที่อุณหภูมิสูงสูงกว่า 2400 องศามากกว่าหรือเท่ากับ 1 . 5 ชั่วโมง
ฟังก์ชั่นหลัก: กำจัดช่องว่างของผงส่งเสริมการยึดเกาะและปรับปรุงความหนาแน่นอย่างมีนัยสำคัญ (สูงถึง 94% หรือมากกว่า) .
4. การประมวลผลพลาสติกและการรักษาความร้อน
การเปลี่ยนรูปแบบการกลิ้ง: ซินเทอร์เล็ตถูกรีดหลายครั้ง (โดยมีการเสียรูปประมาณ 20% ต่อการส่งผ่าน) และอุณหภูมิความร้อนจะค่อยๆลดลง (โดย 100 องศาต่อการผ่าน) เพื่อปรับแต่งขนาดเกรนและปรับปรุงคุณสมบัติเชิงกล .}}}}}}}}}
การรักษาด้วยความร้อน: การหลอมในสภาพแวดล้อมสูญญากาศเพื่อปลดปล่อยความเครียดในการประมวลผลและเพิ่มประสิทธิภาพความสม่ำเสมอของโครงสร้างวัสดุเป้าหมาย .
5. การตัดเฉือนที่แม่นยำและการทดสอบ
การตัดเฉือน: การประมวลผลช่องว่างให้กับขนาดเป้าหมาย (เช่นเป้าหมายกลม, เป้าหมายสี่เหลี่ยม) ผ่านกระบวนการเช่นการหมุนและการกัด .}
การตรวจสอบคุณภาพ: ตรวจสอบความหนาแน่น (มากกว่าหรือเท่ากับ 16 . 68 g/cm ³) ความบริสุทธิ์ (มากกว่าหรือเท่ากับ 99.95%) ขนาดของเมล็ดและข้อบกพร่องเพื่อให้แน่ใจว่าสอดคล้องกับข้อกำหนดการสปัตเตอร์
ตลาดวัสดุเป้าหมาย Tantalum ทั่วโลกเติบโตอย่างต่อเนื่องโดยเฉพาะอย่างยิ่งในสาขาไฮเอนด์ที่ บริษัท ญี่ปุ่นและอเมริกันมีข้อได้เปรียบที่ชัดเจน . ด้วยความก้าวหน้าอย่างต่อเนื่องของเทคโนโลยีและการขยายตัวของแอปพลิเคชัน
ป้ายกำกับยอดนิยม: Tantalum Coated Target 80X2, China Tantalum Target Target 80x2 ผู้ผลิตซัพพลายเออร์โรงงาน, แทนทาลัมสำหรับถังเคมี, ห่วงโซ่อุปทานวัตถุดิบแทนทาลัม
ส่งคำถาม
คุณอาจชอบ
